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一种用于晶硅的清洁机构

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201922287888.2
  • IPC分类号:B08B3/02;B08B3/08;B08B1/02;B08B7/00;B08B13/00;H05F3/06
  • 申请日期:
    2019-12-18
  • 申请人:
    青岛高测科技股份有限公司
著录项信息
专利名称一种用于晶硅的清洁机构
申请号CN201922287888.2申请日期2019-12-18
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B08B3/02IPC分类号B;0;8;B;3;/;0;2;;;B;0;8;B;3;/;0;8;;;B;0;8;B;1;/;0;2;;;B;0;8;B;7;/;0;0;;;B;0;8;B;1;3;/;0;0;;;H;0;5;F;3;/;0;6查看分类表>
申请人青岛高测科技股份有限公司申请人地址
山东省青岛市高新技术产业开发区火炬支路66号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人青岛高测科技股份有限公司当前权利人青岛高测科技股份有限公司
发明人王鹏;朱佰庆;李璐;仇健;张毅
代理机构北京卓岚智财知识产权代理事务所(特殊普通合伙)代理人郭智
摘要
本实用新型涉及一种用于晶硅的清洁机构,属于晶硅加工设备领域,包括相对设置的两挡板,两挡板之间沿着晶硅的输送方向上依次设有喷雾清洗装置、擦拭装置、粘附装置和去静电装置,晶硅经过喷雾清洗装置喷洒清洁剂,再经擦拭装置进行擦拭,最后经去静电装置对晶硅进行表面去离子操作达到清洁晶硅底面的效果,且在挡板上设置安装孔,便于更换所述粘附装置,快换组件便于下滚筒的快速安装和更换,设计巧妙、结构紧凑,清洁效果良好、清洁效率高,便于晶硅底面清洁的自动化操作。

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