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阵列基板及其制造方法、显示装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010407095.4
  • IPC分类号:H01L27/12;H01L21/77;G09F9/33
  • 申请日期:
    2020-05-14
  • 申请人:
    TCL华星光电技术有限公司
著录项信息
专利名称阵列基板及其制造方法、显示装置
申请号CN202010407095.4申请日期2020-05-14
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-08-25公开/公告号CN111584512A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/12IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;2;;;H;0;1;L;2;1;/;7;7;;;G;0;9;F;9;/;3;3查看分类表>
申请人TCL华星光电技术有限公司申请人地址
广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人TCL华星光电技术有限公司当前权利人TCL华星光电技术有限公司
发明人邓永
代理机构深圳紫藤知识产权代理有限公司代理人暂无
摘要
本申请提供一种阵列基板及其制造方法、显示装置,制造方法包括如下步骤于基板上形成第一图案化导电层,第一图案化导电层包括栅极;形成覆盖第一图案化导电层以及基板的绝缘层;于绝缘层远离基板的一侧形成整面的半导体层;于半导体层远离基板的一侧形成整面的第二导电层,采用构图工艺对半导体层以及第二导电层进行图案化,得有源层、源漏电极、第一导电电极、第一导电构件,有源层对应栅极设置,源漏电极电性连接有源层;形成覆盖源漏电极、有源层、绝缘层且使第一导电电极以及第一导电构件暴露的图案化遮光绝缘层,得阵列基板。相对于传统技术,形成遮光层的同时,简化制造制程,减少光罩使用数目。

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