具有改善的可靠性的无掩模光刻系统

发明专利无效专利

申请号：
CN200680027074.8
IPC分类号：H01J37/317;G03F7/20
申请日期：
2006-07-25
申请人：
迈普尔平版印刷IP有限公司

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著录项信息

专利名称	具有改善的可靠性的无掩模光刻系统
申请号	CN200680027074.8	申请日期	2006-07-25
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2008-07-23	公开/公告号	CN101228608
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01J37/317 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01J 放电管或放电灯（火花隙入H01T；消耗电极的弧光灯入H05B；粒子加速器入H05H） H01J37/00 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的（H01J 33/00、H01J 40/00、H01J 41/00、H01J 47/00、H01J 49/00优先）〔2，5〕 H01J37/30 物体局部处理用的电子束管或离子束管 H01J37/317 用于改变物体的特性或在其上加上薄层的，如离子注入（H01J 37/36优先）〔3〕	IPC分类号	H;0;1;J;3;7;/;3;1;7;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人	迈普尔平版印刷IP有限公司	申请人地址	荷兰代尔夫特变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	迈普尔平版印刷IP有限公司	当前权利人	迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人	斯泰恩·威廉·赫尔曼·卡雷尔·斯腾布林克;彼得·克勒伊特;马尔科·扬-哈科·威兰
代理机构	北京康信知识产权代理有限责任公司	代理人	章社杲;李丙林

摘要

本发明涉及一种用于将图案转移到目标表面上的无掩模光刻系统，包括：至少一个细光束光学单元，用于产生多个细光束；至少一个测量单元，用于测量每个细光束的性能；至少一个控制单元，用于产生图案数据并将图案数据递送到所述细光束光学单元，所述控制单元操作性耦合至所述测量单元，用于确定具有在所述性能的预定数值范围之外的测量性能值的无效细光束；至少一个致动器，用于引起所述细光束光学单元和所述目标彼此相对地移动，其中所述致动器与所述控制单元操作性耦合，所述控制单元确定所述移动，将有效细光束定位在所述无效细光束的位置，因而用有效细光束代替所述无效细光束。

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