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溅射装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201980026774.2
IPC分类号：C23C14/34;C23C14/35;C23C14/50;C23C14/54;H01J37/34
申请日期：
2019-04-26
申请人：
ULVAC韩国股份有限公司;爱发科股份有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	溅射装置
申请号	CN201980026774.2	申请日期	2019-04-26
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2020-11-27	公开/公告号	CN112004956A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/34 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;4;;;C;2;3;C;1;4;/;3;5;;;C;2;3;C;1;4;/;5;0;;;C;2;3;C;1;4;/;5;4;;;H;0;1;J;3;7;/;3;4查看分类表>
申请人	ULVAC韩国股份有限公司;爱发科股份有限公司	申请人地址	韩国京畿道平泽市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ULVAC韩国股份有限公司,爱发科股份有限公司	当前权利人	ULVAC韩国股份有限公司,爱发科股份有限公司
发明人	郑炳和;张容硕;朴多熙;柳沼寛寿;岩桥照明
代理机构	北京尚伦律师事务所	代理人	暂无

摘要

根据一实施例的溅射装置，包括工作台，以支撑具有细微图案的基板的状态旋转；靶材，与所述基板相对；以及切断部件，包括配置于所述工作台及靶材之间的切断主体，以及形成于所述切断主体并从所述靶材分离，以使行进至所述基板的成膜材料的至少一部分通过的通孔。

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