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有源矩阵衬底及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200610005775.3
  • IPC分类号:H01L27/12;H01L23/522;H01L21/84;H01L21/768;G02F1/1368
  • 申请日期:
    2006-01-06
  • 申请人:
    三菱电机株式会社
著录项信息
专利名称有源矩阵衬底及其制造方法
申请号CN200610005775.3申请日期2006-01-06
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2006-08-16公开/公告号CN1819217
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/12IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;2;;;H;0;1;L;2;3;/;5;2;2;;;H;0;1;L;2;1;/;8;4;;;H;0;1;L;2;1;/;7;6;8;;;G;0;2;F;1;/;1;3;6;8查看分类表>
申请人三菱电机株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人三菱电机株式会社当前权利人三菱电机株式会社
发明人泽水京子;大谷诚;松井泰志
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人浦柏明;刘宗杰
摘要
本发明的目的在于提供一种高开口率的有源矩阵衬底,其能够防止像素电极和辅助电容电极之间的电短路。在绝缘衬底(1)上形成栅极线(2)和辅助电容电极(3),在辅助电容电极(3)上形成孔部(3h)。形成第1层间绝缘膜(5),使其将栅极线(2)和辅助电容电极(3)覆盖,在其上形成源极线(9)、半导体层和漏极(10),并形成第2层间绝缘膜(12)将它们覆盖。在第2层间绝缘膜(12)上形成接触孔(14),接触孔(14)在与上述孔部(3h)对应的部分到达上述漏极(10)。第2层间绝缘膜(12)上形成的像素电极(15)通过上述接触孔(14)连接到漏极(10)上。

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