聚焦离子束设备及聚焦离子束检测方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200710037676.8
IPC分类号：--
申请日期：
2007-02-13
申请人：
中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	聚焦离子束设备及聚焦离子束检测方法
申请号	CN200710037676.8	申请日期	2007-02-13
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2008-08-20	公开/公告号	CN101246132
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司	申请人地址	上海市浦东新区张江路18号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司	当前权利人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
发明人	赖李龙
代理机构	北京集佳知识产权代理有限公司	代理人	李文红

摘要

本发明公开了一种聚焦离子束设备，包括壳体、用于在样品上产生断面的聚焦离子束装置、用于检测所述断面的扫描电子显微镜装置，以及样品台，此外，还包括与所述样品台相连的，用于旋转所述样品台的断面偏转装置，且所述断面偏转装置的偏转轴线垂直于所述断面。本发明的聚焦离子束检测方法中，增加了沿垂直于所述断面的偏转轴线旋转样品台以调整样品台偏转角度的步骤，避免了离子束在样品内造成的损伤性缺陷，使得检测结果更为准确清晰，并且在实现上也简单方便。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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