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专利名称 | 一种高强耐水艺术石膏砖、板的制造方法 |
申请号 | CN90106060.7 | 申请日期 | 1990-12-12 |
法律状态 | 权利终止 | 申报国家 | 中国 |
公开/公告日 | 1991-08-07 | 公开/公告号 | CN1053574 |
优先权 | 暂无 | 优先权号 | 暂无 |
主分类号 | 暂无 | IPC分类号 | 暂无查看分类表>
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申请人 | 谢东安 | 申请人地址 | 福建省永泰县城关镇杨梅路32号
变更
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权利人 | 谢东安 | 当前权利人 | 谢东安 |
发明人 | 谢东安 |
代理机构 | 福建省专利服务中心 | 代理人 | 郭蔚 |
摘要
一种高强耐水艺术石膏砖、板的制造方法,它以熟石膏粉、珍珠岩粉和水为原料,按一定的比例分别配制面料和底料,然后将产品体积重量30%的面料和70%的底料先后放入垫有花纹模板的钢质模具,送入压力机内压制成型,脱模后在湿状态下养护2小时,静置24小时后即可使用。使用本发明制得的石膏制品与有技术的石膏制品相比,强度高,耐水,耐磨,成本低,且生产过程简单,设备投资少。
1、一种耐水艺术石膏砖,板制造方法,以熟石膏粉、珍珠岩、水为原料经配料、装模、压制、养护四个步骤顺序进行,其特征在于:
a.配料分为配制面料和底料、面料以熟石膏粉和水按1∶1重量比配制、底料以熟石膏粉和珍珠岩粉按10∶1重量比配制;
b.装模是先将面料装入钢质模具,然后将底料装入钢质模具内的面料之上。
本发明是关于一种高强轻质艺术石膏砖、板的制造方法,涉及石膏建筑材料生产技术领域。\n当前,随着我国人民生活水平的提高,人们对各种建筑物内部的装修要求也逐步提高,石膏砖、板做为一种建筑装饰材料日益得到广泛应用,但以往公知的生产方法是将熟石膏粉与玻璃纤维、水等混合,并加入聚乙烯醇溶液,充分搅拌后,放入橡胶模具内拉平,静置15-20分钟后脱模,放入养护架送入烘干炉,在80℃的温度下恒温养护24小时或在阳光下晒干,才可使用。由于熟石膏粉和水的重量比达1∶0.8-0.85,所以石膏制品含水率高,石膏较为饱合,密实度差,强度低,易破,特别是受潮后,容易变形,装修好的石膏制品往往发生下垂和翘曲,严重影响装修质量,虽然可在生产过程中加入有机乳化石蜡,甲基硅酸钠之类防水剂,但却大幅度降低了石膏制品的强度。\n中国发明专利公报87年2月18日公开了一份“一种石膏板的生产方法”(CN85106288A)的申请,提出了在熟石膏中掺入粒状强化材料及延缓剂或加速剂的方法来降低水膏比的方法。\n本发明的目的是提供一种高强、耐水、艺术石膏砖、板的生产方法,使用该方法生产的石膏制品具有高强、耐水的特点,而且生产过程中不需加入多种化学添加剂,也不需恒温养护。\n本发明所采用的方法是根据熟石膏能水化硬化和陈化机理的原理来进行的,它解决了熟石膏在极少水分的情况下难以成型的问题。其生产方法是按附图所示的生产步骤进行的。首先是配料、配料又分为配制面料和底料、面料采用熟石膏粉和水按1∶1的重量比混合搅拌均匀而成、底料采用熟石膏粉和珍珠岩粉按10∶1的重量比混合搅拌均匀而成;随后是装模,装模时,先将占石膏制品体积重量的30%的面料放入垫有花纹模板的钢质模具内拉平,再将石膏制品体积重量70%的底料放入钢质模具内面料之上拉平;然后是压制。装模完毕后的钢质模具可以送入压力机内压制成型,压力机的压力控制在7.5~10T之间,经压力机压制好的石膏制品即可脱模,放在养护架上养护24小时,在湿状态下养护更好,这时的石膏制品已可以使用,但是晾干后对石膏制品的使用及运输更有利,因为重量可减轻,也不易破损。\n附图是本发明的生产步骤。\n本发明实施例:制造200×200×6mm3大小的石膏砖、板,将粒度100目的熟石膏粉和水按1∶1的重量比配制面料再将同样的熟石膏粉和粒度在0.6~1.0mm左右的珍珠岩粉按10∶1的重量比配制底料,随后将面料和底料按制品体积重量3∶7的面料和底料先后放入钢质模具,送入压气机压制,压力机压力控制在10T、脱模、放入养护架上养护24小时,制得石膏制品重6-7kg/m2克,强度为20-50kg/cm2。\n本发明公开的石膏砖、板制品生产方法工序简单,设备投资少、生产成本低。生产的石膏制品轻质、耐水、不老化,还可以调节室内干湿度,因而是一种较为理想的生产方法。
法律信息
- 1996-01-24
- 1993-11-24
- 1991-08-28
实质审查请求已生效的专利申请
实质审查请求已生效的专利申请
- 1991-08-07
引用专利(该专利引用了哪些专利)
序号 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日 | 申请日 | 专利名称 | 申请人 | 该专利没有引用任何外部专利数据! |
被引用专利(该专利被哪些专利引用)
序号 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日 | 申请日 | 专利名称 | 申请人 | 该专利没有被任何外部专利所引用! |