一种磁介质混凝沉淀用匀质配水系统

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201820843084.9
IPC分类号：C02F9/04
申请日期：
2018-06-01
申请人：
太平洋水处理工程有限公司

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著录项信息

专利名称	一种磁介质混凝沉淀用匀质配水系统
申请号	CN201820843084.9	申请日期	2018-06-01
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C02F9/04 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C02 水、废水、污水或污泥的处理 C02F 水、废水、污水或污泥的处理（通过在物质中产生化学变化使有害的化学物质无害或降低危害的方法入A62D 3/00；分离、沉淀箱或过滤设备入B01D；有关处理水、废水或污水生产装置的水运容器的特殊设备，例如用于制备淡水入B63J；为防止水的腐蚀用的添加物质入C23F；放射性废液的处理入G21F 9/04）〔3〕 C02F9/00 水、废水或污水的多级处理〔3〕 C02F9/04 至少有一个化学处理步骤〔7〕	IPC分类号	C;0;2;F;9;/;0;4查看分类表>
申请人	太平洋水处理工程有限公司	申请人地址	江苏省南通市工农路29号天虹大厦4楼B座变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	太平洋水处理工程有限公司	当前权利人	太平洋水处理工程有限公司
发明人	杨志宏;贾伯林;陆亚军;朱家伟;刘跃辉;王伟;施东海;顾宇盟;邢岩
代理机构	北京一格知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	滑春生

摘要

本实用新型涉及一种磁介质混凝沉淀用匀质配水系统，包括一反应组件，所述反应组件包括一反应池，在反应池内安装有搅拌浆，所述反应池的侧端具有一配水口；一沉淀组件，所述沉淀组件包括一设置在反应池侧端的沉淀池，在沉淀池内安装有一刮泥机；一配水组件，所述配水组件包括一设置在反应组件与沉淀组件之间的配水渠，在配水渠内安装有匀质配水器，该匀质配水器位于配水口的出水口处，所述匀质配水器由数列配水管道组共同组成，每列配水管道组由若干并列分布的配水管道共同构成，且两列配水管道组中的配水管道错开分布。本实用新型的优点在于：布水均匀，提高了磁介质沉淀池底部沉淀絮体的分布均匀度，降低了刮泥机局部运行负荷过高的风险。

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