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半导体装置、半导体装置的制造方法、晶体管基板、发光装置及显示装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200980121674.4
  • IPC分类号:H01L29/786;H01L21/336
  • 申请日期:
    2009-08-11
  • 申请人:
    住友化学株式会社
著录项信息
专利名称半导体装置、半导体装置的制造方法、晶体管基板、发光装置及显示装置
申请号CN200980121674.4申请日期2009-08-11
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2011-05-11公开/公告号CN102057489A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/786
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;8;6;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;6查看分类表>
申请人住友化学株式会社申请人地址
日本国东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人住友化学株式会社当前权利人住友化学株式会社
发明人福原升;长谷川彰;松室智纪
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人朱丹
摘要
本发明提供一种使活性层中使用金属氧化物的晶体管的阈值电压稳定的半导体装置,其包括第一金属氧化物层、薄膜电阻的值比所述第一金属氧化物大的第二金属氧化物层、与所述第一金属氧化物层电耦合的一对输入输出电极、和控制所述一对输入输出电极之间的阻抗的控制电极,并按照所述控制电极、所述第一金属氧化物层、所述第二金属氧化物层的顺序被配置。

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