包含含有三芳基二胺的酚醛清漆树脂的抗蚀剂下层膜形成用组合物

发明专利有效专利

申请号：
CN201780053181.6
IPC分类号：G03F7/11;C08G12/08;G03F7/20;G03F7/40;H01L21/3065
申请日期：
2017-08-28
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专利名称	包含含有三芳基二胺的酚醛清漆树脂的抗蚀剂下层膜形成用组合物
申请号	CN201780053181.6	申请日期	2017-08-28
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/11 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/004 感光材料（G03F 7/12，G03F 7/14优先）〔5〕 G03F7/09 以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层（印刷版的基片层一般入B41N）〔5〕 G03F7/11 具有覆盖层或中间层的，例如，（使感光乳剂固着于片基的）胶层〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;1;1;;;C;0;8;G;1;2;/;0;8;;;G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;3;F;7;/;4;0;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0;6;5查看分类表>
申请人	暂无	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	日产化学株式会社	当前权利人	日产化学株式会社
发明人	齐藤大悟;桥本圭祐;坂本力丸
代理机构	北京市中咨律师事务所	代理人	暂无

摘要

本发明的课题是提供用于形成兼具耐热性、平坦化性、和耐蚀刻性的光刻工序所使用的抗蚀剂下层膜的材料。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含包含下述式(1)(在式(1)中，R1为包含至少2个胺和至少3个碳原子数6～40的芳香族环的有机基，R2和R3分别为氢原子、碳原子数1～10的烷基、碳原子数6～40的芳基、杂环基、或它们的组合，并且，该烷基、该芳基、该杂环基可以被卤基、硝基、氨基、甲酰基、烷氧基、或羟基取代，或者R2和R3可以一起形成环)所示的单元结构的聚合物。上述组合物中，R1为由N,N’‑二苯基‑1,4‑苯二胺衍生的2价有机基。

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