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半导体装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010317069.2
  • IPC分类号:H01L29/778;H01L21/335
  • 申请日期:
    2020-04-21
  • 申请人:
    世界先进积体电路股份有限公司
著录项信息
专利名称半导体装置
申请号CN202010317069.2申请日期2020-04-21
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2021-10-22公开/公告号CN113540228A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/778
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;7;8;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;5查看分类表>
申请人世界先进积体电路股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹科学园区 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人世界先进积体电路股份有限公司当前权利人世界先进积体电路股份有限公司
发明人周钰杰;林琮翔
代理机构北京三友知识产权代理有限公司代理人王涛;汤在彦
摘要
本发明实施例提供一种半导体装置。半导体装置包括:基板;缓冲层,位于基板上;阻挡层,位于缓冲层上,其中通道区位于缓冲层中,且邻近于缓冲层与阻挡层的界面;掺杂化合物半导体层,位于一部分的阻挡层上;未掺杂的第一盖层,位于掺杂化合物半导体层上;栅极结构,位于未掺杂的第一盖层上;以及源极/漏极结构,分别位于栅极结构的两侧。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供