加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

包括交替的源极和漏极区域以及相应的源极和漏极金属带的半导体器件

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201310616727.8
  • IPC分类号:H01L29/78;H01L23/528;H01L23/495;H01L21/336;H01L21/60
  • 申请日期:
    2013-11-27
  • 申请人:
    英力股份有限公司
著录项信息
专利名称包括交替的源极和漏极区域以及相应的源极和漏极金属带的半导体器件
申请号CN201310616727.8申请日期2013-11-27
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2014-06-11公开/公告号CN103855216A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/78
?
IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;8;;;H;0;1;L;2;3;/;5;2;8;;;H;0;1;L;2;3;/;4;9;5;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;6;;;H;0;1;L;2;1;/;6;0查看分类表>
申请人英力股份有限公司申请人地址
美国新泽西州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人英力股份有限公司当前权利人英力股份有限公司
发明人A·W·洛特菲;J·德姆斯基;A·菲根森;D·D·洛帕塔;J·诺顿;J·D·威尔德
代理机构北京市金杜律师事务所代理人酆迅
摘要
本发明提供一种半导体器件及形成半导体器件的方法,在一个实施例中,半导体器件包括衬底1105和在衬底1105上被形成为交替图案的多个源极“s”区域和漏极“d”区域。半导体器件还包括多个栅极1150,在多个源极区域和漏极区域中的源极区域和漏极区域之间并且与其平行地形成于衬底1105之上。半导体器件还包括第一多个交替的源极金属带和漏极金属带1111、1121,形成于在衬底1105上方的第一金属层中,并且与多个源极区域和漏极区域中的相应源极区域和漏极区域平行并且形成电接触。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供