专利名称 | 清洁系统和释放机构 | ||
申请号 | CN202110072157.5 | 申请日期 | 2021-01-19 |
法律状态 | 实质审查 | 申报国家 | 中国 |
公开/公告日 | 2021-08-06 | 公开/公告号 | CN113208493A |
优先权 | 暂无 | 优先权号 | 暂无 |
主分类号 | A47L5/22 | IPC分类号 | 查看分类表> |
申请人 | 美诺两合公司 | 申请人地址 |
变更
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权利人 | 美诺两合公司 | 当前权利人 | |
发明人 | 安娜·莉娜·科德斯;迈克尔·珀廷;多米尼克·霍尔兹;费力克斯·吕腾;卡特琳·克莱普施密特;亚历山大·科德斯;詹迈克尔·冯·莱温斯基;比约恩·维布兰斯;盖多·齐利希 | ||
代理机构 | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 葛强;王刚 |
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