一种自洁太阳能高反射率纳米薄膜及制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201110200681.2
IPC分类号：C23C14/35;C23C14/14;C23C14/16;C23C14/10;C23C14/08;B32B15/04;B32B9/04
申请日期：
2011-07-18
申请人：
东莞理工学院

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种自洁太阳能高反射率纳米薄膜及制造方法
申请号	CN201110200681.2	申请日期	2011-07-18
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2011-11-30	公开/公告号	CN102260854A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/35 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕 C23C14/35 利用磁场的，例如磁控溅射〔5〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;5;;;C;2;3;C;1;4;/;1;4;;;C;2;3;C;1;4;/;1;6;;;C;2;3;C;1;4;/;1;0;;;C;2;3;C;1;4;/;0;8;;;B;3;2;B;1;5;/;0;4;;;B;3;2;B;9;/;0;4查看分类表>
申请人	东莞理工学院	申请人地址	广东省东莞市松山湖科技产业园区大学路1号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东莞理工学院	当前权利人	东莞理工学院
发明人	徐勇军;蔡其文;杨晓西;左远志;杭义萍;刘志猛;丁旃;杨敏林
代理机构	深圳市科吉华烽知识产权事务所	代理人	朱晓光

摘要

一种自洁太阳能高反射率纳米薄膜及制造方法，包括一基层，为不锈钢或有机玻璃，厚度0.3mm～1.2mm，其上为一过渡层，材料为铜或铬，厚度为20nm～50nm，其上为一反射层，反射层为银，其厚度为80nm～150nm，其上为一保护层，保护层为二氧化硅，其厚度为200nm～800nm，其上为一自洁层，自洁层为二氧化钛，其厚度为50nm～250nm。本发明的反射膜为银膜时，对太阳光的反射率为94%～97%，当反射膜为铝膜时，反射率为90%～92%，本发明不仅反射率高，而且具有的自清洁功能仅仅用水一冲就光亮如新，户外使用寿命长。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供