提高写入速度的浮体动态随机存储器单元及其制作方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201110314346.5
IPC分类号：H01L27/12;H01L29/78;H01L29/06;H01L29/08;H01L21/84;H01L21/265
申请日期：
2011-10-17
申请人：
上海华力微电子有限公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	提高写入速度的浮体动态随机存储器单元及其制作方法
申请号	CN201110314346.5	申请日期	2011-10-17
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2012-05-09	公开/公告号	CN102446928A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L27/12 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L27/00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件（其零部件入H01L 23/00，H01L 29/00至H01L 51/00；由多个单个固态器件组成的组装件入H01L 25/00）〔2，8〕 H01L27/02 包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的〔2〕 H01L27/12 其衬底为非半导体的，例如为绝缘体的〔2〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;7;/;1;2;;;H;0;1;L;2;9;/;7;8;;;H;0;1;L;2;9;/;0;6;;;H;0;1;L;2;9;/;0;8;;;H;0;1;L;2;1;/;8;4;;;H;0;1;L;2;1;/;2;6;5查看分类表>
申请人	上海华力微电子有限公司	申请人地址	上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海华力微电子有限公司	当前权利人	上海华力微电子有限公司
发明人	俞柳江
代理机构	上海新天专利代理有限公司	代理人	王敏杰

摘要

一种提高写入速度的浮体动态随机存储器单元，包括：形成在底层硅上的氧埋层，所述氧埋层上方设置有若干第一MOS管和第二MOS管，每一个MOS管底部为衬底，衬底的两端接触浅沟槽隔离，所述衬底靠近所述浅沟槽隔离的上端分别设置有源端和漏端，所述源端和漏端之间的衬底上具有沟道，所述沟道的上方设置有栅极，所述栅极位于所述MOS管两端浅沟槽之间正中位置，所述漏端远离所述浅沟槽隔离的一侧具有第一掺杂离子区域，所述源端远离所述浅沟槽隔离的一侧具有第二掺杂离子区域，所述第一掺杂离子区域的面积比所述第二掺杂离子区域的面积大；所述栅极与所述漏端在竖直方向上的交叠区域比所述栅极与源端在竖直方向上的交叠区域大。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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