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一种含氟清洗液

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201611070472.X
  • IPC分类号:G03F7/42
  • 申请日期:
    2016-11-29
  • 申请人:
    安集微电子科技(上海)股份有限公司
著录项信息
专利名称一种含氟清洗液
申请号CN201611070472.X申请日期2016-11-29
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2018-06-05公开/公告号CN108121175A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/42IPC分类号G;0;3;F;7;/;4;2查看分类表>
申请人安集微电子科技(上海)股份有限公司申请人地址
上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)T6-9幢底层 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人安集微电子科技(上海)股份有限公司当前权利人安集微电子科技(上海)股份有限公司
发明人何春阳;赵鹏;刘兵
代理机构北京大成律师事务所代理人李佳铭
摘要
本发明公开了一种含氟清洗液,其含有氟化物、有机胺、有机溶剂、水和肼及其衍生物。本发明的清洗液清洗能力强,可有效去除半导体制程过程中等离子刻蚀残留物,尤其是在铜马士革工艺中灰化后的残留物,并且在高转速单片机清洗中对非金属材料(如氮氧化硅和低介质材料)和金属材料(如Cu)等有较小的腐蚀速率,适用于批量浸泡式、批量旋转喷雾式清洗方式,尤其适用于高转速单片旋转式的清洗方式,克服了传统清洗液铜腐蚀抑制的缺陷,在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。

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