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纳米机电装置结构

发明专利无效专利

申请号：
CN201611251353.4
IPC分类号：H01L23/48
申请日期：
2016-12-30
申请人：
台湾积体电路制造股份有限公司

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权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	纳米机电装置结构
申请号	CN201611251353.4	申请日期	2016-12-30
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2017-08-18	公开/公告号	CN107068639A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L23/48 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L23/00 半导体或其他固态器件的零部件（H01L 25/00优先）〔2，5〕 H01L23/48 用于向或自处于工作中的固态物体通电的装置，例如引线或接线端装置〔2〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;3;/;4;8查看分类表>
申请人	台湾积体电路制造股份有限公司	申请人地址	中国台湾新竹市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	台湾积体电路制造股份有限公司	当前权利人	台湾积体电路制造股份有限公司
发明人	陈欣苹;杨岱宜;后藤贤一;眭晓林;卡罗斯·H·戴尔兹
代理机构	隆天知识产权代理有限公司	代理人	王芝艳

摘要

本发明的实施例提供一种纳米机电装置结构，包括：基板，内连线结构形成于基板之上。纳米机电装置结构还包括：介电层形成于内连线结构之上，梁结构形成于介电层之中与之上，其中梁结构包括固定部分与可移动部分，固定部分沿着垂直方向延伸，且可移动部分沿着水平方向延伸。纳米机电装置结构尚包括：盖结构形成于介电层与梁结构之上；以及凹洞形成于梁结构与盖结构之间。

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