加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

制造半导体器件的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200610076376.6
  • IPC分类号:H01L21/60;H01L21/48;H01L23/495;H01L23/50
  • 申请日期:
    2006-04-20
  • 申请人:
    株式会社瑞萨科技
著录项信息
专利名称制造半导体器件的方法
申请号CN200610076376.6申请日期2006-04-20
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2006-11-01公开/公告号CN1855409
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/60IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;0;;;H;0;1;L;2;1;/;4;8;;;H;0;1;L;2;3;/;4;9;5;;;H;0;1;L;2;3;/;5;0查看分类表>
申请人株式会社瑞萨科技申请人地址
日本神奈川县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人瑞萨电子株式会社当前权利人瑞萨电子株式会社
发明人天野贤治;长谷部一
代理机构北京市金杜律师事务所代理人王茂华
摘要
公开了一种制造半导体器件的方法。根据此方法,提供一种引线框架,其中形成在每个悬置引线(1e)上的用于导线连接的镀银的薄片侧端部的厚度小于形成在每个引线上的镀银的厚度。之后,将半导体芯片安装到薄片上。在这种情况下,由于在悬置引线(1e)上的镀银的整个表面处在挤压状态,所以可防止当把半导体芯片安装到薄片上时半导体芯片与镀银的接触。从而,在管芯键合工艺中,半导体芯片可以在薄片上滑动,而不与镀银接触,并且可以减少在将半导体芯片安装到薄片上时对半导体芯片的损坏,并因此可以防止当装配半导体器件时芯片的破裂或碎裂。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供