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一种具有选择吸收特性的薄膜结构及其制备方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201610472957.5
  • IPC分类号:G02B5/00
  • 申请日期:
    2016-06-24
  • 申请人:
    中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
著录项信息
专利名称一种具有选择吸收特性的薄膜结构及其制备方法
申请号CN201610472957.5申请日期2016-06-24
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2016-10-26公开/公告号CN106054292A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B5/00IPC分类号G;0;2;B;5;/;0;0查看分类表>
申请人中国科学院长春光学精密机械与物理研究所申请人地址
吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院长春光学精密机械与物理研究所当前权利人中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
发明人周文超;吴一辉;余慕欣;刘永顺;迟明波
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人王宝筠
摘要
本申请公开了一种具有选择吸收特性的薄膜结构及其制备方法,其中,薄膜结构包括:基底;位于基底表面的第一金属薄膜;位于第一金属薄膜背离基底一侧表面的介质薄膜层;位于介质薄膜层背离第一金属薄膜一侧表面的第二金属薄膜。发明人研究发现上述结构的薄膜结构为具有MIM波导特性的选择吸收结构,并且通过MIM波导特性计算发现,通过改变介质薄膜层的厚度可以改变具有选择吸收特性的薄膜结构的吸收峰的中心波长,通过改变第二金属薄膜的厚度可以改变具有选择吸收特性的薄膜结构的吸收峰的半波带宽,从而可以通过调整介质薄膜层以及第二金属薄膜的厚度改变具有吸收特性的薄膜结构的选择吸收特性。

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