定量分析方法、定量分析程序及荧光X射线分析装置

发明专利有效专利

申请号：
CN202080005907.0
IPC分类号：G01N23/223
申请日期：
2020-07-10
申请人：
株式会社理学

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著录项信息

专利名称	定量分析方法、定量分析程序及荧光X射线分析装置
申请号	CN202080005907.0	申请日期	2020-07-10
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-06-08	公开/公告号	CN112930478A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N23/223 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N23/206 （转入G01N 23/205） G01N23/22 通过测量来自材料的二次发射〔1，2，2006.01，2018.01〕 G01N23/223 通过用X射线或γ射线辐照样品以及测量X射线荧光〔2，2006.01〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;3;/;2;2;3查看分类表>
申请人	株式会社理学	申请人地址	日本国东京都昭岛市松原町3丁目9番12号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社理学	当前权利人	株式会社理学
发明人	田中伸
代理机构	北京瑞盟知识产权代理有限公司	代理人	刘昕;孟祥海

摘要

本发明提供了一种可高精度的定量分析的方法、定量分析程序以及荧光X射线分析装置。在通过荧光X射线分析装置进行的定量分析方法中，包括以下步骤：取得步骤(S202)，在不同的条件下，从包含多个元素的样品中取得至少在第1能量位置具有第1峰的多个光谱；指定步骤(S206)，在多个光谱中，指定主光谱、和在第2能量位置具有第2峰的副光谱；第1拟合步骤(S208、S210)，对副光谱所包含的所述第1峰进行拟合，计算在所述第1峰的所述第2能量位置处的背景强度；以及第2拟合步骤(S212)，对所述主光谱的所述第1峰进行拟合，并且在所计算出的所述背景强度被包含在所述第2能量位置的条件下，对副光谱的所述第2峰进行拟合。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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