MEMS面内位移测量方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201510644305.0
IPC分类号：G01B11/02;B81B7/02
申请日期：
2015-10-08
申请人：
重庆平伟实业股份有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	MEMS面内位移测量方法
申请号	CN201510644305.0	申请日期	2015-10-08
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2015-12-30	公开/公告号	CN105203033A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01B11/02 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01B 长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量 G01B11/00 以采用光学方法为特征的计量设备（G01B 9/00组中包括的各式仪器本身入G01B 9/00）〔2〕 G01B11/02 用于计量长度、宽度或厚度（G01B 11/08优先）	IPC分类号	G;0;1;B;1;1;/;0;2;;;B;8;1;B;7;/;0;2查看分类表>
申请人	重庆平伟实业股份有限公司	申请人地址	重庆市梁平县梁山镇皂角村双桂工业园区变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	重庆平伟实业股份有限公司	当前权利人	重庆平伟实业股份有限公司
发明人	罗元;赖翔;张毅;李述洲;王兴龙
代理机构	重庆市前沿专利事务所（普通合伙）	代理人	郭云

摘要

本发明公开了一种基于图像的MEMS面内位移测量方法，该方法包括以下步骤：S1，获取两幅图像；S2，在样本图像中选取样本子区f(x,y)，在目标图像中选取目标子区g(x,y)；S3，为提高处理的精度，对两幅子区图像进行分形插值处理；S4，将样本子区图像进行傅立叶变换；S5，将步骤S4中变换后的图像进行滤波，得到涡旋图像；S6，计算涡旋点偏心率参数和相位参数；S7，寻找最佳匹配，获得位移值。本发明解决了传统数字散斑中采用光学方法获取散斑图像需要激光光源同时对微小物体的散斑布放存在困难的问题，也解决了在进行相关运算计算量大，算法耗时较长，测量分辨率满足不了MEMS面内位移亚像素级测量要求的缺陷，能够提高测量精度和效率。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

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