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基板处理装置和基板处理方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110539836.9
  • IPC分类号:G03F7/16
  • 申请日期:
    2021-05-18
  • 申请人:
    东京毅力科创株式会社
著录项信息
专利名称基板处理装置和基板处理方法
申请号CN202110539836.9申请日期2021-05-18
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2021-11-30公开/公告号CN113721424A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/16IPC分类号G;0;3;F;7;/;1;6查看分类表>
申请人东京毅力科创株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京毅力科创株式会社当前权利人东京毅力科创株式会社
发明人上山昇太;丸山光昭;大薗启;中岛清次
代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)代理人刘新宇;张会华
摘要
本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。提供一种能够针对基板处理装置减小占地面积的技术。对于包含处理模块的基板处理装置,该处理模块设有分别对基板进行液处理的多个液处理组件,其中,基板输送模块设于处理模块的左侧。基板输送模块具有:容器载置部,其供用于收纳多个基板的容器载置;第1输送机构,其相对于容器交接基板。另外,在处理模块设有沿左右方向延伸的基板的输送路径和在该输送路径移动而相对于液处理组件输送基板的第2输送机构。另外,为了在第1输送机构和第2输送机构之间交接基板而载置基板的交接部在处理模块设于相对于输送路径的前侧且是相对于液处理组件的左侧。

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