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半导体工序

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN03107377.8
  • IPC分类号:H01L21/8239;H01L21/82
  • 申请日期:
    2003-03-24
  • 申请人:
    旺宏电子股份有限公司
著录项信息
专利名称半导体工序
申请号CN03107377.8申请日期2003-03-24
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2004-09-29公开/公告号CN1532918
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/8239
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;8;2;3;9;;;H;0;1;L;2;1;/;8;2查看分类表>
申请人旺宏电子股份有限公司申请人地址
台湾省新竹科学工业园区 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人旺宏电子股份有限公司当前权利人旺宏电子股份有限公司
发明人赖二琨
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人周长兴
摘要
一种半导体制程,提供一具有垫氧化层基底,且此基底上可分为记忆胞区、周边电路区以及动态随机存取储存器区。于记忆胞区中形成数个图案化埋入式汲极区,然后于周边电路区以及动态随机存取储存器区中形成数个沟渠。接著去除基底上的垫氧化层,再于沟渠表面以及基底上形成氧化硅/氮化硅/氧化硅层,然后于基底上形成图案化多晶硅层。接著于基底上形成绝缘层,平坦化此绝缘层,然后去除周边电路区的图案化多晶硅层。的后进行井植入制程,以于周边电路区形成数个井。接著去除暴露出的氧化硅/氮化硅/氧化硅层,然后于记忆胞区的图案化多晶硅层上形成金属硅化物层。

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