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用于磁致伸缩式随机存取存储器(MRAM)的小形状因子磁屏蔽

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201480007258.2
  • IPC分类号:H01L23/552;H01L23/64;H01L43/02;H01L27/22
  • 申请日期:
    2014-01-31
  • 申请人:
    高通股份有限公司
著录项信息
专利名称用于磁致伸缩式随机存取存储器(MRAM)的小形状因子磁屏蔽
申请号CN201480007258.2申请日期2014-01-31
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2015-10-07公开/公告号CN104969346A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L23/552IPC分类号H;0;1;L;2;3;/;5;5;2;;;H;0;1;L;2;3;/;6;4;;;H;0;1;L;4;3;/;0;2;;;H;0;1;L;2;7;/;2;2查看分类表>
申请人高通股份有限公司申请人地址
美国加利福尼亚州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人高通股份有限公司当前权利人高通股份有限公司
发明人S·顾;R·张;V·拉马钱德兰;D·W·金
代理机构上海专利商标事务所有限公司代理人唐杰敏
摘要
一些实现提供包括磁阻式随机存取存储器(MRAM)单元阵列的管芯,该MRAM单元阵列包括若干MRAM单元。该管芯还包括位于该MRAM单元阵列上方的第一铁磁层、位于该MRAM单元阵列下方的第二铁磁层、以及位于至少一个MRAM单元周围的若干通孔。通孔包括铁磁材料。在一些实现中,第一铁磁层、第二铁磁层和该若干通孔定义用于该MRAM单元阵列的磁屏蔽。MRAM单元可包括磁隧道结(MTJ)。在一些实现中,该若干通孔至少穿过管芯的金属层和介电层。在一些实现中,通孔是贯穿基板通孔。在一些实现中,铁磁材料具有高磁导率和高B饱和度。

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