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光刻装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200410047824.0
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2004-05-31
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称光刻装置
申请号CN200410047824.0申请日期2004-05-31
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2005-02-02公开/公告号CN1573566
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维尔德霍芬 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人D·F·库伊佩;J·C·康普特;J·范埃克;J·F·莫莱纳亚;D·C·奥克维尔;J·W·M·C·蒂尤森;M·P·范德尔森;G·P·J·范德霍文;M·J·维沃德多克;M·G·帕尔多;G·J·维多斯;G·J·P·尼塞;P·F·格里维;J·范沃斯特;M·M·P·A·维梅伦;A·H·弗维
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人王波波
摘要
一种具有掩模装置的光刻投影装置,所述掩模装置用于遮盖至少一个构图装置的部分,所述构图装置用于在投影光束将带图案光束成像在基底上之前对投影光束进行构图。所述掩模装置包括在第一方向遮盖所述构图装置的部分的第一掩模装置,以及在第二不同方向遮盖所述部分的第二掩模装置,其中所述第一和第二掩模装置以机械上彼此分开布置的方式设置在所述焦平面附近。

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