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成像靶优化方法及成像系统

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510570857.1
  • IPC分类号:A61N5/06
  • 申请日期:
    2015-09-09
  • 申请人:
    上海联影医疗科技有限公司
著录项信息
专利名称成像靶优化方法及成像系统
申请号CN201510570857.1申请日期2015-09-09
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2015-12-16公开/公告号CN105148412A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号A61N5/06IPC分类号A;6;1;N;5;/;0;6查看分类表>
申请人上海联影医疗科技有限公司申请人地址
上海市嘉定区嘉定工业区城北路2258号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海联影医疗科技有限公司当前权利人上海联影医疗科技有限公司
发明人韩卫;刘艳芳;李贵;J·S·墨子
代理机构暂无代理人暂无
摘要
一种成像系统,包括:加速器,用于产生高速电子;成像靶,受到高速电子的撞击后生成用于成像的射线;探测器,探测穿过病人的成像射线,所述成像靶还用于,将高速电子转化为低能成像射线。本发明通过对成像靶的材料和结构进行调整,将加速器发出的兆伏级电子束转换为符合成像条件的光子射线,减少患者承受的剂量的同时也有利于提高成像质量。

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