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半导体装置及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN02158814.7
  • IPC分类号:H01L23/48;H01L21/60;H01L21/28
  • 申请日期:
    2002-12-25
  • 申请人:
    夏普株式会社
著录项信息
专利名称半导体装置及其制造方法
申请号CN02158814.7申请日期2002-12-25
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2003-07-16公开/公告号CN1430271
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L23/48IPC分类号H;0;1;L;2;3;/;4;8;;;H;0;1;L;2;1;/;6;0;;;H;0;1;L;2;1;/;2;8查看分类表>
申请人夏普株式会社申请人地址
日本大阪府 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人夏普株式会社当前权利人夏普株式会社
发明人山口真司;浅津琢郎;小野敦
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人汪惠民
摘要
一种半导体装置及其制造方法,包括在基板上形成的、在电极垫上具有开口部的第1保护膜、在上述开口部中与电极垫连结并且其周边部由上述第1保护膜所覆盖的突起电极、至少覆盖第1保护膜和突起电极之间的边界部分的间隙而形成的并且在突起电极的上面区域除与第1保护膜之间的边界部分周边之外开口的第2保护膜、在第2保护膜的开口上覆盖突起电极表面而形成的覆盖层。这样、在采用无电解电镀法形成突起电极的半导体装置中、可以防止电极垫和突起电极之间的连结强度的降低。

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