离子发生装置

实用新型专利无效专利

申请号：
CN201390000726.4
IPC分类号：H01T23/00;F24F7/00
申请日期：
2013-09-12
申请人：
夏普株式会社

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法律信息

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著录项信息

专利名称	离子发生装置
申请号	CN201390000726.4	申请日期	2013-09-12
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01T23/00 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01T 火花隙；应用火花隙的过压避雷器；火花塞；电晕装置；产生被引入非密闭气体的离子（过压保护电路入H02H） H01T23/00 产生被引入非密封气体中的离子的装置，例如引入大气中〔4〕	IPC分类号	H;0;1;T;2;3;/;0;0;;;F;2;4;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人	夏普株式会社	申请人地址	日本大阪府变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	夏普株式会社	当前权利人	夏普株式会社
发明人	小林肇
代理机构	北京市隆安律师事务所	代理人	权鲜枝

摘要

提供能防止喷射雾时附着于壳体的液体侵入壳体内部的离子发生装置。将由设于送风壳体(1)内的离子发生单元分别产生的正离子和负离子经过送气口(17)向规定方向送出，并且在雾SW(102)被按下操作的情况下，将在与送风壳体(1)连串设置的罐壳体(5)内实现了雾状化的液体经过设于罐壳体(5)的喷射口(62)向与送出离子的方向(上述规定方向)相同的方向喷射。另外，在罐壳体(5)和送风壳体(1)之间设置台阶(40)，由此防止附着于罐壳体(5)表面的液体流下并从送气口(17)侵入送风壳体(1)的内部。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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