加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

一种悬浮熔炼设备的完全无铜原子沾污的水冷铜坩埚

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN202022627123.1
  • IPC分类号:F27B14/04;F27B14/06;F27B14/08;F27B14/10;F27D9/00
  • 申请日期:
    2020-11-13
  • 申请人:
    曹峻铭
著录项信息
专利名称一种悬浮熔炼设备的完全无铜原子沾污的水冷铜坩埚
申请号CN202022627123.1申请日期2020-11-13
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号F27B14/04IPC分类号F;2;7;B;1;4;/;0;4;;;F;2;7;B;1;4;/;0;6;;;F;2;7;B;1;4;/;0;8;;;F;2;7;B;1;4;/;1;0;;;F;2;7;D;9;/;0;0查看分类表>
申请人曹峻铭申请人地址
陕西省宝鸡市金台区蟠龙镇蟠龙观邸F区10号楼1305号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人宝鸡华煜鼎尊材料技术有限公司当前权利人宝鸡华煜鼎尊材料技术有限公司
发明人曹峻铭
代理机构北京嘉途睿知识产权代理事务所(普通合伙)代理人彭成
摘要
本实用新型公开一种悬浮熔炼设备的完全无铜原子沾污的水冷铜坩埚,适用于真空电磁悬浮熔炼技术。所述悬浮熔炼设备包括水冷铜坩埚、真空炉体、真空机组、感应电源、冷却系统和控制系统。所述水冷铜坩埚的坩埚内壁上设置有惰性涂层,所述惰性涂层为熔点高于被熔炼材料的金属,和/或与被熔炼材料同类或相同的金属。惰性涂层避免了金属熔池由于与铜质的坩埚内壁直接接触而使铜原子侵入金属熔池中,从而提高了产品的质量。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供