一种加工微纳器件的金属微滴喷射增材制造系统及方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201710284018.2
IPC分类号：B22F3/115;B33Y30/00
申请日期：
2017-04-26
申请人：
武汉大学

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专利名称	一种加工微纳器件的金属微滴喷射增材制造系统及方法
申请号	CN201710284018.2	申请日期	2017-04-26
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2017-09-08	公开/公告号	CN107138729A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B22F3/115 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B22 铸造；粉末冶金 B22F 金属粉末的加工；由金属粉末制造制品；金属粉末的制造（用粉末冶金法制造合金入C22C；）；金属粉末的专用装置或设备 B22F3/00 由金属粉末制造工件或制品，其特点为用压实或烧结的方法；所用的专用设备 B22F3/115 利用喷射熔融金属，例如喷射烧结、喷射铸造〔6〕	IPC分类号	B;2;2;F;3;/;1;1;5;;;B;3;3;Y;3;0;/;0;0查看分类表>
申请人	武汉大学	申请人地址	湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	武汉大学	当前权利人	武汉大学
发明人	李辉;何凤良;申胜男;薛乾坤
代理机构	武汉科皓知识产权代理事务所（特殊普通合伙）	代理人	魏波

摘要

本发明公开了一种加工微纳器件的金属微滴喷射增材制造系统及方法，系统由产生区、筛选区、转向区和加工区组成，且四区均为真空；产生区用于产生带电金属液滴，使液滴获得初速度；筛选区用于产生匀强电场和产生匀强磁场；转向区用于产生匀强电场和产生匀强磁场；加工区用于实现复杂微纳结构的打印加工，且不需要支撑等额外构架。本发明通过电场和磁场的组合，可实现带电金属液滴的精确控制；电磁场控制，对所产生的金属液滴进行筛选，可以确保进入加工区的液滴均满足条件，保证加工精度；可以打印具有复杂结构的微纳器件，且不需要加打印支撑等额外架构，节省材料，去掉了后续去除支撑的工序。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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