带有双保持环的带研磨装置

发明专利无效专利

申请号：
CN01820906.8
IPC分类号：--
申请日期：
2001-12-21
申请人：
拉姆研究公司

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	带有双保持环的带研磨装置
申请号	CN01820906.8	申请日期	2001-12-21
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2004-03-10	公开/公告号	CN1481294
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	拉姆研究公司	申请人地址	美国加利福尼亚州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	拉姆研究公司	当前权利人	拉姆研究公司
发明人	阿列克·奥夫恰兹;约翰·博伊德;罗德·基斯特勒
代理机构	北京三友知识产权代理有限公司	代理人	党晓林

摘要

本发明用于在化学机械研磨处理中改善边缘性能。此系统包含一个配置在一晶片(406)上方的晶片头(402)，其中所述的晶片头包含能伸缩的一第一活动保持环(404)。在晶片头下方的是一条研磨皮带(412)，而配置在研磨皮带下方的是一个具有能伸缩的一第二活动保持环(410)的晶片固定台(408)。在操作期间，第一活动保持环与第二活动保持环可受到控制以为研磨皮带提供位置控制，从而调整并控制在晶片的边缘的移除率。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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