一种旁流水处理设备倒置腔体

实用新型专利无效专利

申请号：
CN201020222093.X
IPC分类号：C02F1/52
申请日期：
2010-06-11
申请人：
冯军

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法律信息

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著录项信息

专利名称	一种旁流水处理设备倒置腔体
申请号	CN201020222093.X	申请日期	2010-06-11
法律状态	权利终止	申报国家	暂无
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C02F1/52 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C02 水、废水、污水或污泥的处理 C02F 水、废水、污水或污泥的处理（通过在物质中产生化学变化使有害的化学物质无害或降低危害的方法入A62D 3/00；分离、沉淀箱或过滤设备入B01D；有关处理水、废水或污水生产装置的水运容器的特殊设备，例如用于制备淡水入B63J；为防止水的腐蚀用的添加物质入C23F；放射性废液的处理入G21F 9/04）〔3〕 C02F1/00 水、废水或污水的处理（C02F 3/00至C02F 9/00优先）〔3〕 C02F1/52 悬浮杂质的絮凝或沉淀〔3〕	IPC分类号	C;0;2;F;1;/;5;2查看分类表>
申请人	冯军	申请人地址	湖南省长沙市开福区潘家坪108号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	冯军	当前权利人	冯军
发明人	冯军;李光荣
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

一种旁流水处理设备倒置腔体，包含有：流体入口管道，流体出口管道，流体处理设备待处理腔室，流体处理设备已处理腔室，流体处理材料，隔板，排气阀，其特征在于：流体处理设备待处理腔室在流体处理设备已处理腔室下方。本实用新型由于将流体处理设备腔体待处理腔室安装在流体处理设备已处理腔室的下方，这样充分利用了流体的自然特性，当待处理腔室随着工作时间的推移，各种黏泥、菌、藻类含量不断上升，分子之间发生碰撞形成大分子团概率上升，各种大分子团会因为重力的作用而自然沉淀，本实用新型就是利用重力的自然特点，给大分子团提供一个自然的沉淀室，避免各种黏泥、菌、藻类等杂质沉积在各种流体处理材料上，从而提高了流体处理设备的净化效果。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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