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工艺级误差对微波系统驻波比影响的测量评估方法及系统

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申请号：CN201910663764.1
申请人：中国电子科技集团公司第三十八研究所
申请日：2019-07-22
主分类号：G01R27/06
公开（公告）日：2019-10-08
公开/公告号：CN110308328A

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摘要：本发明提供一种工艺级误差对微波系统驻波比影响的测量及评估方法及系统，包括以下步骤：S100，构建样件；S200，测量样件在制造过程中产生的工艺级误差，包括钎透率β1、连接器安装偏差β2、金丝拱高偏差α1和金丝键合距离偏差α2；S300，更换样件，重复上述步骤，得出该样件4个误差源对驻波比的影响。S400，测量评估，首先对误差源进行高斯加权，然后对四个权重归一化，即可得各个误差对驻波比影响的权重分配。与现有技术相比，本发明提供一种测量并评估钎透率偏差、连接器安装偏差和金丝压焊工艺对驻波比影响的方法；对样件的检测快速方便，非侵入式，对样件没有破坏性；对各个误差源进行了高斯加权分配，使这些误差对样件驻波比的影响更加科学客观。

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