防护膜组件、曝光原版、曝光装置及半导体装置的制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201880012953.6
IPC分类号：G03F1/64;G03F7/20
申请日期：
2018-02-09
申请人：
三井化学株式会社

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法律信息

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著录项信息

专利名称	防护膜组件、曝光原版、曝光装置及半导体装置的制造方法
申请号	CN201880012953.6	申请日期	2018-02-09
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2019-10-11	公开/公告号	CN110325908A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/64 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/16 （转入G03F 1/00-G03F 1/86） G03F1/62 薄膜或薄膜集合，例如在支持框架上具有薄膜；其制备〔2012.01〕 G03F1/64 以框架为特征的，例如其结构或材料〔2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;6;4;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人	三井化学株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	三井化学株式会社	当前权利人	三井化学株式会社
发明人	高村一夫;小野阳介;大久保敦;种市大树;石川比佐子;美谷岛恒明
代理机构	北京银龙知识产权代理有限公司	代理人	暂无

摘要

本发明提供EUV透射性高、释气少、污染少的EUV用防护膜组件及其制造方法。防护膜组件(100)的特征在于，具有防护膜(101)、支撑框(103)以及第1粘接层(109)，所述第1粘接层(109)设置于支撑框的与吊挂有防护膜的端部相反一侧的端部，在第1粘接层的沿与防护膜面交叉的方向且处于吊挂防护膜一侧的侧面具有无机物层(111)，上述无机物层的质量吸收系数(μm)为5×103cm2/g～2×105cm2/g的范围。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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