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可辐射成像涂层、其形成方法和在衬底上形成图像的方法与系统

发明专利无效专利

申请号：
CN200680056724.1
IPC分类号：B41M5/46;B41M5/30
申请日期：
2006-12-19
申请人：
惠普开发有限公司

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	可辐射成像涂层、其形成方法和在衬底上形成图像的方法与系统
申请号	CN200680056724.1	申请日期	2006-12-19
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2009-10-21	公开/公告号	CN101563235
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B41M5/46 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B4 印刷 B41 印刷；排版机；打字机；模印机〔4〕 B41M 印刷、复制、标记或拷贝工艺；彩色印刷（排印上的错误校正入B41J；提供转印图片或类似的方法入B44C 1/16；通过涂敷来校正印刷错误的液体介质入C09D 10/00；印刷纺织品入D06P） B41M5/00 复制或标记方法；供其使用的单张材料（用感光材料的入G03；电铸凹版法、磁性印刷法入G03G） B41M5/26 热压凸印法（B41M 5/20、B41M 5/24优先；光热敏物体系入G03C 1/498）〔5〕 B41M5/40 以底层、中间层或表层为特征；渗透或吸收热、辐射的方法或涂层；与涂层或合成物相结合以适合于其他的图像配准方法；用于通过热凸印法进行复制的特殊原稿〔5〕 B41M5/46 以光—热转换方式为特征的；以热或辐射的过滤或吸收方式，或其过滤层或吸收层为特征的〔８〕	IPC分类号	B;4;1;M;5;/;4;6;;;B;4;1;M;5;/;3;0查看分类表>
申请人	惠普开发有限公司	申请人地址	美国德克萨斯州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	惠普开发有限公司	当前权利人	惠普开发有限公司
发明人	V·卡斯珀基克;C·L·多什;M·P·戈尔
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	庞立志;韦欣华

摘要

可辐射成像涂层包含内含可辐射固化聚合物基质和布置在可辐射固化聚合物基质中的活化剂的第一相，不溶地分布在所述第一相中的第二相，第二相包含成色剂，和分布在所述第一相和第二相至少之一中的混杂天线染料包，其中所述混杂天线染料包至少包含具有高消光系数的第一天线染料和具有低消光系数的第二天线染料。

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