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曝光装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200510075829.9
  • IPC分类号:G03F7/20;H01L21/027
  • 申请日期:
    2005-05-27
  • 申请人:
    株式会社ORC制作所
著录项信息
专利名称曝光装置
申请号CN200510075829.9申请日期2005-05-27
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2005-11-30公开/公告号CN1702556
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人株式会社ORC制作所申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社ORC制作所当前权利人株式会社ORC制作所
发明人水口信一郎;伊势胜
代理机构北京三友知识产权代理有限公司代理人董惠石
摘要
本发明提供一种曝光装置,用简易的结构防止因感光树脂产生的挥发物质造成复眼透镜表面的污染。所述曝光装置具备:具有光源、反射镜及复眼透镜的光源室;以及经由分隔板而与该光源室分隔的曝光室,具备:收容上述复眼透镜的壳体;以及送风装置,将冷却风送至收容于上述壳体内的复眼透镜;上述壳体具有:开口部,形成于来自上述光源的照射光与相对于上述复眼透镜的入射光路及射出光路对应的位置上;进气口,形成于与该开口部的开口方向正交的位置上,并连结上述送风装置;以及排气口,形成于与该进气口相向的位置上,从而在上述壳体内形成一直线状的送风路径;在上述分隔板上,在与上述照射光的光路对应的位置上,设有使上述照射光透过的透光部件。

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