光电探测器、调焦调平装置以及光刻投影设备

发明专利有效专利

申请号：
CN201911204078.4
IPC分类号：G03F9/00;G01B11/06;G01B11/26
申请日期：
2019-11-29
申请人：
上海微电子装备（集团）股份有限公司

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专利名称	光电探测器、调焦调平装置以及光刻投影设备
申请号	CN201911204078.4	申请日期	2019-11-29
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2021-06-01	公开/公告号	CN112882356A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F9/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F9/00 原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地（G03F 7/22优先；照相蒙片的制备入G03F 1/00；在复制用的照相印片设备中的入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;9;/;0;0;;;G;0;1;B;1;1;/;0;6;;;G;0;1;B;1;1;/;2;6查看分类表>
申请人	上海微电子装备（集团）股份有限公司	申请人地址	上海市浦东新区张东路1525号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海微电子装备（集团）股份有限公司	当前权利人	上海微电子装备（集团）股份有限公司
发明人	毛静超;徐荣伟;庄亚政;孙建超;季桂林
代理机构	上海思捷知识产权代理有限公司	代理人	王宏婧

摘要

本发明提供了一种光电探测器、调焦调平装置以及光刻投影设备，所述光电探测器包括基底；排列设置在所述基底上的至少两个光电探测组件，用于接收光束；设置在所述基底上的至少一个第一遮挡组件，所述第一遮挡组件位于任意相邻的两个光电探测组件之间，用于抵挡相邻的光电探测组件之间的光束传播；设置在所述基底内的至少一个第二遮挡组件，用于抵挡穿过预定光电探测组件的光束从光电探测组件的下方被反射至相邻的光电探测组件。本发明提供的光电探测器和调焦调平装置的测量精度较高，以及利用本发明提供的光刻投影设备制造出的半导体器件的性能较高。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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