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具有记忆胞的元件及具有记忆胞阵列的元件的制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200510069990.5
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    2005-05-11
  • 申请人:
    旺宏电子股份有限公司
著录项信息
专利名称具有记忆胞的元件及具有记忆胞阵列的元件的制造方法
申请号CN200510069990.5申请日期2005-05-11
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2005-12-14公开/公告号CN1707776
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人旺宏电子股份有限公司申请人地址
中国台湾 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人旺宏电子股份有限公司当前权利人旺宏电子股份有限公司
发明人潘锡树;黄仲仁
代理机构北京中原华和知识产权代理有限责任公司代理人寿宁;张华辉
摘要
一种具有二位元浮置闸极记忆胞的元件的制造方法,首先提供一基底,且在基底上的记忆胞区中形成一复合电荷储存膜层。接着,在复合电荷储存膜层上形成一保护衬里材料层。其中,记忆胞区更包括在基底中的埋入式扩散区上形成氧化元件,以及在复合电荷储存膜层上形成多晶硅间隙壁,且此多晶硅间隙壁倚靠在此氧化元件的侧壁上。此外,更包括以多晶硅间隙壁为罩幕,进行一蚀刻制程穿过横向两氧化元件间的复合电荷储存膜层以形成一隔离沟渠,并在沟渠中形成一绝缘体。然后,形成一闸极导体并覆盖该复合电荷储存结构,且填满两氧化元件间的隔离沟渠。

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