图案缺陷检查方法、光掩模制造方法和显示装置基板制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200710091454.4
IPC分类号：G03F1/44;G03F1/84
申请日期：
2007-03-30
申请人：
HOYA株式会社

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著录项信息

专利名称	图案缺陷检查方法、光掩模制造方法和显示装置基板制造方法
申请号	CN200710091454.4	申请日期	2007-03-30
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2007-10-03	公开/公告号	CN101046625
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/44 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/16 （转入G03F 1/00-G03F 1/86） G03F1/38 具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备〔2012.01〕 G03F1/44 测试或测量特征，例如网格图案、焦点监控、锯齿尺寸或缺口尺寸〔2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;4;4;;;G;0;3;F;1;/;8;4查看分类表>
申请人	HOYA株式会社	申请人地址	日本东京都160-8347新宿区西新宿六丁目10番1号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	HOYA株式会社	当前权利人	HOYA株式会社
发明人	山口升
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	王新华

摘要

本发明提供一种缺陷检查方法，所述缺陷检查方法适于检查在制造显示装置基板的光掩模或者显示装置基板中的光掩模(50)的主要图案(56)中产生的缺陷。主要图案包括其中周期性排列有单元图案的重复图案。在除所述主要图案之外的区域内与通过激光束扫描来刻画所述主要图案同时形成用于检查的辅助图案，由此在刻画所述主要图案中出现的位置或线宽的改变以相同的改变量出现在所述辅助图案中。辅助图案的周期小于主要图案的周期。所述方法将光线以预定的入射角辐射到辅助图案上，并由观察设备接收由辅助图案所产生的衍射光以检测所述辅助图案的刻画过程中所述改变的出现，从而确定主要图案的缺陷的存在。

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