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一种半导体晶圆半精磨、精磨设备

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201810534751.X
  • IPC分类号:B24B19/22;B24B37/11;B24B37/27;B24B37/34;B24B55/06
  • 申请日期:
    2018-05-29
  • 申请人:
    李涵
著录项信息
专利名称一种半导体晶圆半精磨、精磨设备
申请号CN201810534751.X申请日期2018-05-29
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2018-11-06公开/公告号CN108747721A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B24B19/22IPC分类号B;2;4;B;1;9;/;2;2;;;B;2;4;B;3;7;/;1;1;;;B;2;4;B;3;7;/;2;7;;;B;2;4;B;3;7;/;3;4;;;B;2;4;B;5;5;/;0;6查看分类表>
申请人李涵申请人地址
江苏省徐州市新沂市北沟镇黄山路北侧(无锡-新沂工业园) 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人江苏锡沂高新区科技发展有限公司当前权利人江苏锡沂高新区科技发展有限公司
发明人李涵;潘万胜
代理机构北京君泊知识产权代理有限公司代理人暂无
摘要
本发明属于半导体领域,具体的说是一种半导体晶圆半精磨、精磨设备,包括底座、电机、一号支撑轴、支撑模块、晶圆、压紧模块和夹紧模块,底座顶部竖直连接一号支撑轴,底座底部安装电机;支撑模块设置在一号支撑轴的上方,支撑模块用于支撑晶圆;压紧模块和夹紧模块均匀设置在支撑模块的上方,压紧模块用于将需要研磨的晶圆压紧,夹紧模块用于将需要研磨的晶圆夹紧,防止晶圆移动,当需要对晶圆进行研磨时,先将晶圆放到支撑模块中的研磨布上,压紧模块中衬垫将晶圆压紧,不让其发生移动,再通过支撑模块中的研磨布对晶圆底部进行精磨,在支撑模块、压紧模块和夹紧模块的相互配合作用下实现晶圆底部的精磨和晶圆顶部的半精磨。

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