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光刻投影物镜热效应评估方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510754931.5
  • IPC分类号:G01N25/00;G01M11/02
  • 申请日期:
    2015-11-09
  • 申请人:
    中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
著录项信息
专利名称光刻投影物镜热效应评估方法
申请号CN201510754931.5申请日期2015-11-09
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2016-02-03公开/公告号CN105301035A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01N25/00IPC分类号G;0;1;N;2;5;/;0;0;;;G;0;1;M;1;1;/;0;2查看分类表>
申请人中国科学院长春光学精密机械与物理研究所申请人地址
北京市北京经济技术开发区景园北街2号52幢6层601-10室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人北京国望光学科技有限公司当前权利人北京国望光学科技有限公司
发明人于新峰;倪明阳;李显凌;张巍;隋永新;杨怀江
代理机构长春菁华专利商标代理事务所(普通合伙)代理人于晓庆
摘要
光刻投影物镜热效应评估方法,涉及深紫外光刻投影物镜像质评估领域,解决了现有方法存在的物镜热效应评价不精确、分析过程繁琐的问题。该方法为:采用有限元方法或有限体积法进行热仿真,输出物镜中每片透镜上的各个网格节点的空间坐标以及各个网格节点的温度值;获取每条追迹光线在每片透镜入射表面和出射表面的坐标及在出射光瞳上的坐标,得到原始光学系统每条追迹光线的光程差;根据每条追迹光线的实际传播路径和每片透镜的温度分布,采用数值积分方法计算得到每条追迹光线由透镜折射率变化引入的光程差;将每条追迹光线由透镜折射率变化引入的光程差叠加到原始光学系统相对应的追迹光线的光程差中。本发明物镜热效应评估精确,分析过程简单。

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