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一种利于创作艺术景观的挡土墙

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN201720416159.0
  • IPC分类号:E02D29/02;E02D19/20;A01G9/02
  • 申请日期:
    2017-04-20
  • 申请人:
    昆明学院
著录项信息
专利名称一种利于创作艺术景观的挡土墙
申请号CN201720416159.0申请日期2017-04-20
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号E02D29/02IPC分类号E;0;2;D;2;9;/;0;2;;;E;0;2;D;1;9;/;2;0;;;A;0;1;G;9;/;0;2查看分类表>
申请人昆明学院申请人地址
云南省昆明市经济开发区浦新路2号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人昆明学院当前权利人昆明学院
发明人朱维伟;谭洋洋;冯国建;杜俊;邱志刚
代理机构昆明正原专利商标代理有限公司代理人金耀生
摘要
本实用新型是一种利于创作艺术景观的挡土墙,它包括基础、墙身、墙前平台、悬挑板、泄水孔和排水槽,墙身固定于基础之上,悬挑板在墙身的上端,墙前平台设在墙身上,墙前平台横向钢筋伸入墙身,墙前平台上设有排水槽,墙身上与排水槽水应位置设有泄水孔。本实用新型的挡土墙,有利于创作植物艺术景观与墙绘艺术景观,有利于墙面的分区利用,强度容易调节,造价较低,施工方便,排水能力较强,可在交通、建筑、园林市政等工程中推广使用。

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