首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据，仅供参考，实际以国家知识产权局展示为准

使用臭氧气体和氢自由基的工件加工

发明专利有效专利

申请号：
CN202110555481.2
IPC分类号：H01L21/306;H01L21/3065;H01J37/32
申请日期：
2021-05-21
申请人：
北京屹唐半导体科技股份有限公司;玛特森技术公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	使用臭氧气体和氢自由基的工件加工
申请号	CN202110555481.2	申请日期	2021-05-21
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-10-01	公开/公告号	CN113471070A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/306 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕 H01L21/02 半导体器件或其部件的制造或处理〔2，8〕 H01L21/04 至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件，例如PN结、耗尽层、载体集结层〔2〕 H01L21/18 器件有由周期表Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体，如掺杂材料〔2，6，7〕 H01L21/30 用H01L 21/20至H01L 21/26各组不包含的方法或设备处理半导体材料的（在半导体材料上制作电极的入H01L 21/28）〔2〕 H01L21/302 改变半导体材料的表面物理特性或形状的，例如腐蚀、抛光、切割〔2〕 H01L21/306 化学或电处理，例如电解腐蚀（形成绝缘层的入H01L 21/31；绝缘层的后处理入H01L 21/3105）〔2〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;3;0;6;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0;6;5;;;H;0;1;J;3;7;/;3;2查看分类表>
申请人	北京屹唐半导体科技股份有限公司;玛特森技术公司	申请人地址	北京市大兴区经济技术开发区经海二路28号8幢变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京屹唐半导体科技股份有限公司,玛特森技术公司	当前权利人	北京屹唐半导体科技股份有限公司,玛特森技术公司
发明人	张祺;杨海春;仲華;杨晓晅
代理机构	北京易光知识产权代理有限公司	代理人	崔晓光

摘要

提供了一种用于加工工件的方法。该工件可包括钌层和铜层。在一个示例实施方式中，用于加工工件的方法可以包括将工件支撑在工件支撑件上。该方法可以包括在该工件上对该钌层的至少一部分进行臭氧蚀刻工艺。该方法还可包括在工件上进行氢自由基处理工艺，以去除该铜层上的氧化物层的至少一部分。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供