PVD设备的双面镀膜控制方法、装置及系统

发明专利有效专利

申请号：
CN202011416265.1
IPC分类号：C23C14/56;C23C14/54
申请日期：
2020-12-07
申请人：
沈阳广泰真空科技有限公司

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著录项信息

专利名称	PVD设备的双面镀膜控制方法、装置及系统
申请号	CN202011416265.1	申请日期	2020-12-07
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-03-19	公开/公告号	CN112522679A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/56 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/56 连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;5;6;;;C;2;3;C;1;4;/;5;4查看分类表>
申请人	沈阳广泰真空科技有限公司	申请人地址	辽宁省沈阳市沈抚新区同城路599号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	沈阳广泰真空科技有限公司	当前权利人	沈阳广泰真空科技有限公司
发明人	王海平;曹磊;王鹏
代理机构	北京中强智尚知识产权代理有限公司	代理人	黄耀威

摘要

本申请公开了一种PVD设备的双面镀膜控制方法、装置及系统，涉及镀膜技术领域，可以解决在控制执行PVD设备的双面镀膜时，采用人工判断、翻面及启停弧源等方式，导致人工成本较高，且镀膜效率较低、误差率较大的问题。其中方法包括：利用前升降料台系统接收用于盛装目标物料的目标料盘，并采集所述目标料盘的工作信息；基于所述工作信息控制翻转台系统以及镀膜主机执行所述目标物料下的双面镀膜操作。本申请适用于对PVD设备的双面镀膜控制。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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