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一种监测系统

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201320126324.0
IPC分类号：G02F1/13;G02F1/1341;G01G19/00
申请日期：
2013-03-19
申请人：
合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	一种监测系统
申请号	CN201320126324.0	申请日期	2013-03-19
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/13 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;;;G;0;2;F;1;/;1;3;4;1;;;G;0;1;G;1;9;/;0;0查看分类表>
申请人	合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司	申请人地址	安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司	当前权利人	合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
发明人	井杨坤
代理机构	北京路浩知识产权代理有限公司	代理人	王莹

摘要

本实用新型公开了液晶制造行业领域，特别涉及一种监测系统。包括测量液晶滴注系统重量的测量装置以及判断所述测量装置的测量数据是否满足预设标准的监测器。本实用新型实现了对滴注的液晶量的精确测量；防止了液晶过充、液晶未充满或基板液晶泄露的问题；节约了资源。

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