一种真空镀膜设备

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201821559941.9
IPC分类号：C23C14/24;C23C14/50
申请日期：
2018-09-25
申请人：
赫得纳米科技（黄石）有限公司

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著录项信息

专利名称	一种真空镀膜设备
申请号	CN201821559941.9	申请日期	2018-09-25
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/24 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/24 真空蒸发〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;2;4;;;C;2;3;C;1;4;/;5;0查看分类表>
申请人	赫得纳米科技（黄石）有限公司	申请人地址	湖北省黄石市经济技术开发区金山大道189号B栋研发楼办公201 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	赫得纳米科技（黄石）有限公司	当前权利人	赫得纳米科技（黄石）有限公司
发明人	张晓飞;盛明亮
代理机构	武汉国越知识产权代理事务所（特殊普通合伙）	代理人	李伟涛

摘要

本实用新型公开了一种真空镀膜设备，包括固定罩，所述固定罩的内部安装有喷雾器，所述固定罩的顶端安装有压板，所述压板的顶端安装有手提把手，所述固定罩的底端安装有底座，所述底座的底端安装有机箱，所述固定罩的内部安装有喷雾器，所述固定罩的中部一侧通过铰链安装有密封盖，所述密封盖的中部通过转动轴安装有镀件安装盘，所述镀件安装盘的中部安装有吸盘，所述镀件安装盘的内侧安装有弹簧，所述弹簧的一端安装有夹头。本实用新型整体设计简单，且喷雾器镶嵌在固定罩的内部，固定罩的顶端安装有手提把手，在固定罩的底端安装有机箱，通过此种设计的镀膜设备，大大方便装置的携带，造价低。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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该专利没有被任何外部专利所引用！

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