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基板处理装置和基板处理方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201980082692.X
  • IPC分类号:B23K26/53H01L21/02H01L21/304
  • 申请日期:
    2019-12-09
  • 申请人:
    东京毅力科创株式会社
著录项信息
专利名称基板处理装置和基板处理方法
申请号CN201980082692.X申请日期2019-12-09
法律状态实质审查申报国家暂无
公开/公告日2021-07-30公开/公告号CN113195153A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B23K26/53IPC分类号B23K26/53;H01L21/02;H01L21/304查看分类表>
申请人东京毅力科创株式会社申请人地址
日本*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京毅力科创株式会社当前权利人东京毅力科创株式会社
发明人森弘明;田之上隼斗;川口义广
代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)代理人刘新宇
摘要
一种基板处理装置,对基板进行处理,所述基板处理装置具有:基板保持部,其保持将第一基板的表面与第二基板的表面接合而成的重合基板中的所述第二基板;周缘改性部,其针对被所述基板保持部保持的所述第一基板的内部,沿着作为去除对象的周缘部与中央部之间的边界照射周缘用激光来形成周缘改性层;以及内部面改性部,在通过所述周缘改性部形成了所述周缘改性层后,所述内部面改性部针对被所述基板保持部保持的所述第一基板的内部,沿着面方向照射内部面用激光来形成内部面改性层。

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