一种高纯钒靶坯的制备方法及利用其制得的高纯钒靶材

发明专利有效专利

申请号：
CN202011580420.3
IPC分类号：C23C14/34;C22F1/18;C23C14/35;B23P15/00
申请日期：
2020-12-28
申请人：
宁波江丰电子材料股份有限公司

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专利名称	一种高纯钒靶坯的制备方法及利用其制得的高纯钒靶材
申请号	CN202011580420.3	申请日期	2020-12-28
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-05-11	公开/公告号	CN112779508A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/34 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;4;;;C;2;2;F;1;/;1;8;;;C;2;3;C;1;4;/;3;5;;;B;2;3;P;1;5;/;0;0查看分类表>
申请人	宁波江丰电子材料股份有限公司	申请人地址	浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	宁波江丰电子材料股份有限公司	当前权利人	宁波江丰电子材料股份有限公司
发明人	姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;黄东长
代理机构	北京远智汇知识产权代理有限公司	代理人	王岩

摘要

本发明涉及一种高纯钒靶坯的制备方法及利用其制得的高纯钒靶材，所述制备方法包括：将钒铸锭依次进行锻造、退火、轧制以及再次退火，得到高纯钒靶坯；其中，所述再次退火的温度为450‑550℃。所述制备方法利用锻造、退火、轧制以及再次退火的协同耦合作用，并严格限制再次退火的温度为450‑550℃，制备得到的钒靶坯不仅内部结构均匀，还具有晶粒细小的优点，晶粒尺寸≤50μm，基本可以控制在20‑40μm范围内，而且成品率高达90％以上。

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