浸槽及供液系统

发明专利有效专利

申请号：
CN201810548588.2
IPC分类号：B08B3/10;B08B13/00
申请日期：
2018-05-31
申请人：
武汉华星光电技术有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	浸槽及供液系统
申请号	CN201810548588.2	申请日期	2018-05-31
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2018-11-20	公开/公告号	CN108838160A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B08B3/10 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B0 分离；混合 B08 清洁 B08B 一般清洁；一般污垢的防除（刷子入A46；家庭或类似清洁装置入A47L；颗粒从液体或气体中分离入B01D；固体分离入B03，B07；一般对表面喷射或涂敷液体或其他流体材料入B05；用于输送机的清洗装置入B65G 45/10；对瓶子同时进行清洗、灌注和封装的入B67C 7/00；一般腐蚀或积垢的防止入C23；街道、永久性道路、海滨或陆地的清洗入E01H；专门用于游泳池或仿海滨浴场浅水池或池子的部件、零件或辅助设备清洁的入E04H 4/16；防止或清除静电荷入H05F） B08B3/00 使用液体或蒸气的清洁方法（B08B 9/00优先） B08B3/04 与液体接触的清洁 B08B3/10 对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动	IPC分类号	B;0;8;B;3;/;1;0;;;B;0;8;B;1;3;/;0;0查看分类表>
申请人	武汉华星光电技术有限公司	申请人地址	湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	武汉华星光电技术有限公司	当前权利人	武汉华星光电技术有限公司
发明人	施杰
代理机构	广州三环专利商标代理有限公司	代理人	郝传鑫;熊永强

摘要

本发明提供一种浸槽，包括第一主体、第二主体和回流部，第一主体和第二主体相对设置，且第一主体、第二主体和回流部共同围合形成容腔，回流部设于第一主体和第二主体的底部，容腔用于盛装清洗液，第一主体内设有第一空腔，第一主体上还设有第一流道，第一空腔与容腔通过第一流道联通，第一空腔用于储存清洗液，第一流道用于将第一空腔内的清洗液输送至容腔，口金的喷嘴浸泡在容腔内的清洗液内，回流部设有阀门，通过控制阀门的开闭以切换浸泡和清洗的状态，回流部流出的清洗液用于输送至第一空腔以循环使用。通过上述设置，可加快清洗液流动速度，对口金的喷嘴冲刷更剧烈，提升清洗效果。本发明还提供了一种供液装置。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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