进气机构和半导体工艺设备

发明专利有效专利

申请号：
CN202110476436.8
IPC分类号：H01L21/67
申请日期：
2021-04-29
申请人：
北京北方华创微电子装备有限公司

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著录项信息

专利名称	进气机构和半导体工艺设备
申请号	CN202110476436.8	申请日期	2021-04-29
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-07-30	公开/公告号	CN113192869A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/67 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕 H01L21/67 专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置〔8〕	IPC分类号	H01L21/67查看分类表>
申请人	北京北方华创微电子装备有限公司	申请人地址	北京市大兴区经济技术开发区文昌大*** 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京北方华创微电子装备有限公司	当前权利人	北京北方华创微电子装备有限公司
发明人	李进;牛晨
代理机构	北京国昊天诚知识产权代理有限公司	代理人	施敬勃

摘要

本申请公开一种进气机构和半导体工艺设备，所述进气机构包括第一盖体和第二盖体，所述第一盖体与所述第二盖体连接，配合构成一混气腔；所述第一盖体的顶部设有与所述混气腔连通的进气孔，所述第二盖体的底部设有多个与所述混气腔连通的安装槽，所述安装槽的底部设有出气孔，所述出气孔连通所述安装槽和所述工艺腔室的工艺腔，至少一个所述安装槽内设置有调节件，所述调节件用于调节所述出气孔的有效出气截面积。上述技术方案提供的进气机构能够缓解目前半导体加工过程中工艺均匀性调节手段较少的问题。

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进气机构和半导体工艺设备

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